反應離子刻蝕機

v  功能特點

ü  樣品尺寸4"，6"，8"

ü  LOAD-LOCK全自動進樣系統

ü  ICP-RIE 刻蝕腔室，水冷樣品臺，可選氦氣被冷系統

ü  ICP感應耦合等離子體，射頻功率最大3KW，13.56MHz 或MP微波等離子體，最大功率3KW，2.56GHz

ü RIE下電極， 射頻功率600W，13.56MHz

ü  8路或12路刻蝕工藝氣體：Ar, O2, H2, N2, Cl2 ，CF4, CH4, SF6 ,SiCl4 , BCl3，HBr，C4F8，CHF3可選，均帶MFC，防腐蝕

ü  高真空無油系統：防腐蝕渦輪分子泵+前級干泵系統

ü  FBBear系統控制軟件