離子束濺射
產品詳情
v 功能特點
ü 本底真空-8Torr-10Torr
ü 四軸樣品臺，XYZ方向均可調節，可傾斜，可旋轉
ü 多靶位靶材臺，帶水冷，支持多4個靶位，可旋轉切換靶位
ü RFICP射頻離子源
ü霍爾或考夫曼輔助離子源
ü 雙掩膜Dual mask
ü UpStream/Downstream控制
ü 膜厚監控儀
ü 可增加OES等離子發射光譜儀定性分析等離子成分
ü 可增加RGA四極質譜儀
ü 可集成磁控濺射陰極，實現磁控濺射鍍膜功能
ü 可增加進樣室，手動/自動上下片基片
ü 可實現離子束沉積、離子束刻蝕和磁控濺射多功能系統
（可根據客戶要求定制）
詢盤