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超高真空磁控濺射鍍膜機

超高真空磁控濺射鍍膜機

產品詳情

v 功能特點

ü 本底真空：2E-10torr

ü 4個UHV超高真空陰極

ü 系統可烘烤

ü 共濺或順序濺射系統

ü 4軸加熱樣品臺，可旋轉、XYZ方向均可移動

ü SiC加熱器，加熱溫度850℃以上

ü 多腔體真空互聯

ü 手動或自動LoadLock上下片系統

v 沉積材料

ü Nb、Ti、Al、NbTi等低溫超導材料

ü Fe、Co、Ni及合金磁性等材料

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離子束刻蝕機

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激光直寫光刻機

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電子束蒸發鍍膜機

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團簇式沉積設備

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原子層沉積設備

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詢盤

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